587酸性光亮鍍銅工藝特點(diǎn):1．          鍍液控制容易，鍍層填平度特強(qiáng)。2．          鍍層不容易產(chǎn)生針孔內(nèi)應(yīng)力低，延展性極強(qiáng)。3．          電流密度范圍寬闊，鍍層填平度高達(dá)70﹪，電鍍效果光亮。4．          沉積速度快，在4.5安培／平方米的電流密度下，每分鐘可鍍出1微米的銅層，電鍍時(shí)間因而縮短。5．          鍍層電阻率低，故非常適合于對(duì)鍍層物理性能要求高的電子工業(yè)。6．          應(yīng)用于不同型的基體金屬、銅件、鋅合金件、塑膠金件同樣適用。7．          雜質(zhì)容忍量高，一般在使用長(zhǎng)時(shí)間后才需活性碳粉處理. 

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